കോട്ടിംഗ് ടാർഗെറ്റ് മെറ്റീരിയലിന്റെ സവിശേഷതകളും സാങ്കേതിക തത്വങ്ങളും എന്തൊക്കെയാണ്

പൂശിയ ലക്ഷ്യത്തിലെ നേർത്ത ഫിലിം ഒരു പ്രത്യേക മെറ്റീരിയൽ ആകൃതിയാണ്.കട്ടിയുള്ള പ്രത്യേക ദിശയിൽ, സ്കെയിൽ വളരെ ചെറുതാണ്, ഇത് സൂക്ഷ്മമായി അളക്കാവുന്ന അളവാണ്.കൂടാതെ, ഫിലിം കനത്തിന്റെ രൂപവും ഇന്റർഫേസും കാരണം, മെറ്റീരിയൽ തുടർച്ച അവസാനിക്കുന്നു, ഇത് ഫിലിം ഡാറ്റയ്ക്കും ടാർഗെറ്റ് ഡാറ്റയ്ക്കും വ്യത്യസ്‌ത പൊതു ഗുണങ്ങളുള്ളതാക്കുന്നു. കൂടാതെ ലക്ഷ്യം പ്രധാനമായും മാഗ്നെട്രോൺ സ്‌പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗിന്റെ ഉപയോഗമാണ്, ബെയ്‌ജിംഗ് റിച്ച്‌മാറ്റിന്റെ എഡിറ്റർ നമ്മെ മനസ്സിലാക്കാൻ കൊണ്ടുപോകും. സ്പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗിന്റെ തത്വവും കഴിവുകളും.

　　一、സ്പുട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗിന്റെ തത്വം

സ്‌പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗ് വൈദഗ്ദ്ധ്യം അയോൺ ഷെല്ലിംഗ് ടാർഗെറ്റ് രൂപഭാവം ഉപയോഗിക്കുക എന്നതാണ്, ടാർഗെറ്റ് ആറ്റങ്ങൾ സ്പട്ടറിംഗ് എന്നറിയപ്പെടുന്ന പ്രതിഭാസത്തിൽ നിന്ന് പുറത്തെടുക്കുന്നു.അടിവസ്ത്രത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ നിക്ഷേപിച്ചിരിക്കുന്ന ആറ്റങ്ങളെ സ്‌പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗ് എന്ന് വിളിക്കുന്നു. പൊതുവേ, ഗ്യാസ് അയോണൈസേഷൻ ഗ്യാസ് ഡിസ്ചാർജ് വഴിയാണ് ഉത്പാദിപ്പിക്കുന്നത്, കൂടാതെ പോസിറ്റീവ് അയോണുകൾ വൈദ്യുത മണ്ഡലത്തിന്റെ പ്രവർത്തനത്തിൽ ഉയർന്ന വേഗതയിൽ കാഥോഡ് ടാർഗെറ്റിലേക്ക് ബോംബെറിഞ്ഞ് ആറ്റങ്ങളെയോ തന്മാത്രകളെയോ തട്ടിയെടുക്കുന്നു. കാഥോഡ് ടാർഗെറ്റ്, ഒരു ഫിലിമിലേക്ക് നിക്ഷേപിക്കുന്നതിനായി അടിവസ്ത്രത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തിലേക്ക് പറക്കുന്നു. ലളിതമായി പറഞ്ഞാൽ, സ്‌പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗ് അയോണുകൾ സൃഷ്ടിക്കുന്നതിന് താഴ്ന്ന മർദ്ദത്തിലുള്ള നിഷ്ക്രിയ വാതക ഗ്ലോ ഡിസ്ചാർജ് ഉപയോഗിക്കുന്നു.

സാധാരണയായി, സ്പട്ടറിംഗ് ഫിലിം പ്ലേറ്റിംഗ് ഉപകരണങ്ങൾ ഒരു വാക്വം ഡിസ്ചാർജ് ചേമ്പറിൽ രണ്ട് ഇലക്ട്രോഡുകൾ കൊണ്ട് സജ്ജീകരിച്ചിരിക്കുന്നു, കൂടാതെ കാഥോഡ് ടാർഗെറ്റ് കോട്ടിംഗ് ഡാറ്റയാണ്.വാക്വം ചേമ്പർ 0.1 ~ 10Pa മർദ്ദമുള്ള ആർഗോൺ വാതകം കൊണ്ട് നിറഞ്ഞിരിക്കുന്നു.1~3kV ഡിസിയുടെ നെഗറ്റീവ് ഹൈ വോൾട്ടേജ് അല്ലെങ്കിൽ 13.56mhz ആർഎഫ് വോൾട്ടേജിന്റെ പ്രവർത്തനത്തിൽ കാഥോഡിൽ ഗ്ലോ ഡിസ്ചാർജ് സംഭവിക്കുന്നു.ആർഗോൺ അയോണുകൾ ടാർഗെറ്റ് പ്രതലത്തിൽ ബോംബെറിഞ്ഞ് സ്‌പട്ടർ ചെയ്ത ടാർഗെറ്റ് ആറ്റങ്ങൾ അടിവസ്ത്രത്തിൽ അടിഞ്ഞുകൂടാൻ കാരണമാകുന്നു.

　　二、സ്പട്ടറിംഗ് കോട്ടിംഗ് കഴിവുകളുടെ സവിശേഷതകൾ

1, ഫാസ്റ്റ് സ്റ്റാക്കിംഗ് വേഗത

ഹൈ സ്പീഡ് മാഗ്നെട്രോൺ സ്പട്ടറിംഗ് ഇലക്ട്രോഡും പരമ്പരാഗത രണ്ട് ഘട്ട സ്പട്ടറിംഗ് ഇലക്ട്രോഡും തമ്മിലുള്ള വ്യത്യാസം കാന്തം ലക്ഷ്യത്തിന് താഴെയായി ക്രമീകരിച്ചിരിക്കുന്നു എന്നതാണ്, അതിനാൽ അടച്ച അസമമായ കാന്തികക്ഷേത്രം ലക്ഷ്യത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ സംഭവിക്കുന്നു. വൈവിധ്യമാർന്ന കാന്തികക്ഷേത്രത്തിന്റെ.ഫോക്കസിംഗ് പ്രഭാവം കാരണം, ഇലക്ട്രോണുകൾ കുറച്ച് രക്ഷപ്പെടുന്നു.വൈവിധ്യമാർന്ന കാന്തികക്ഷേത്രം ടാർഗെറ്റ് ഉപരിതലത്തിന് ചുറ്റും പോകുന്നു, കൂടാതെ വൈവിധ്യമാർന്ന കാന്തികക്ഷേത്രത്തിൽ പിടിച്ചെടുക്കുന്ന ദ്വിതീയ ഇലക്ട്രോണുകൾ വാതക തന്മാത്രകളുമായി ആവർത്തിച്ച് കൂട്ടിയിടിക്കുന്നു, ഇത് വാതക തന്മാത്രകളുടെ ഉയർന്ന പരിവർത്തന നിരക്ക് മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നു. അതിനാൽ, ഉയർന്ന വേഗതയുള്ള മാഗ്നെട്രോൺ സ്പുട്ടറിംഗ് കുറഞ്ഞ ശക്തി ഉപയോഗിക്കുന്നു, പക്ഷേ അനുയോജ്യമായ ഡിസ്ചാർജ് സ്വഭാവസവിശേഷതകളോടെ മികച്ച കോട്ടിംഗ് കാര്യക്ഷമത നേടാൻ കഴിയും.

2, അടിവസ്ത്ര താപനില കുറവാണ്

ഹൈ സ്പീഡ് മാഗ്നെട്രോൺ സ്പട്ടറിംഗ്, ലോ ടെമ്പറേച്ചർ സ്പട്ടറിംഗ് എന്നും അറിയപ്പെടുന്നു.കാരണം, ഉപകരണം പരസ്പരം നേരെയുള്ള വൈദ്യുതകാന്തിക മണ്ഡലങ്ങളുടെ ഒരു സ്ഥലത്ത് ഡിസ്ചാർജുകൾ ഉപയോഗിക്കുന്നു.ലക്ഷ്യത്തിന്റെ പുറത്ത്, പരസ്പരം സംഭവിക്കുന്ന ദ്വിതീയ ഇലക്ട്രോണുകൾ.നേരായ വൈദ്യുതകാന്തിക മണ്ഡലത്തിന്റെ പ്രവർത്തനത്തിൽ, അത് ലക്ഷ്യത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തോട് ചേർന്ന് ബന്ധിപ്പിച്ച് വൃത്താകൃതിയിലുള്ള റോളിംഗ് ലൈനിൽ റൺവേയിലൂടെ നീങ്ങുന്നു, വാതക തന്മാത്രകളെ അയോണീകരിക്കാൻ വാതക തന്മാത്രകൾക്കെതിരെ ആവർത്തിച്ച് മുട്ടുന്നു. ഒരുമിച്ച്, ഇലക്ട്രോണുകൾക്ക് ക്രമേണ അവയുടെ ഊർജ്ജം നഷ്ടപ്പെടും. ആവർത്തിച്ചുള്ള ബമ്പുകൾ, അടിവസ്ത്രത്തിന് സമീപമുള്ള ലക്ഷ്യത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ നിന്ന് രക്ഷപ്പെടുന്നതിന് മുമ്പ് അവയുടെ ഊർജ്ജം ഏതാണ്ട് പൂർണ്ണമായും നഷ്ടപ്പെടും.ഇലക്ട്രോണുകളുടെ ഊർജ്ജം വളരെ കുറവായതിനാൽ, ലക്ഷ്യത്തിന്റെ താപനില വളരെ ഉയർന്നതല്ല.ക്രയോജനൈസേഷൻ പൂർത്തിയാക്കുന്ന ഒരു സാധാരണ ഡയോഡ് ഷോട്ടിന്റെ ഉയർന്ന ഊർജ്ജ ഇലക്ട്രോൺ ബോംബിംഗ് മൂലമുണ്ടാകുന്ന അടിവസ്ത്ര താപനിലയിലെ വർദ്ധനവിനെ പ്രതിരോധിക്കാൻ ഇത് മതിയാകും.

3, മെംബ്രൻ ഘടനകളുടെ വിശാലമായ ശ്രേണി

വാക്വം ബാഷ്പീകരണത്തിലൂടെയും ഇൻജക്ഷൻ ഡിപ്പോസിഷനിലൂടെയും ലഭിക്കുന്ന നേർത്ത ഫിലിമുകളുടെ ഘടന, ബൾക്ക് സോളിഡുകളുടെ കനം കുറയ്ക്കുന്നതിലൂടെ ലഭിക്കുന്നതിൽ നിന്ന് തികച്ചും വ്യത്യസ്തമാണ്.പൊതുവായി നിലവിലുള്ള ഖരപദാർഥങ്ങളിൽ നിന്ന് വ്യത്യസ്തമായി, ത്രിമാനങ്ങളിൽ ഒരേ ഘടനയായി തരംതിരിച്ചിരിക്കുന്നു, വാതക ഘട്ടത്തിൽ നിക്ഷേപിച്ചിരിക്കുന്ന ഫിലിമുകളെ വൈവിധ്യമാർന്ന ഘടനകളായി തരംതിരിക്കുന്നു.അടിവസ്ത്രത്തിന്റെ ഒറിജിനൽ കോൺവെക്സ് ഉപരിതലവും അടിവസ്ത്രത്തിന്റെ പ്രമുഖ ഭാഗങ്ങളിൽ കുറച്ച് നിഴലുകളും മൂലമാണ് ഫിലിമിന്റെ നിര വളർച്ച ഉണ്ടാകുന്നത്.എന്നിരുന്നാലും, അടിവസ്ത്ര താപനില, അടുക്കിയിരിക്കുന്ന ആറ്റങ്ങളുടെ ഉപരിതല വ്യാപനം, അശുദ്ധ ആറ്റങ്ങളുടെ ശ്മശാനം, അടിവസ്ത്ര ഉപരിതലവുമായി ബന്ധപ്പെട്ട സംഭവ ആറ്റങ്ങളുടെ ആംഗിൾ എന്നിവ കാരണം നിരയുടെ ആകൃതിയും വലുപ്പവും തികച്ചും വ്യത്യസ്തമാണ്.അമിതമായ താപനില പരിധിയിൽ, നേർത്ത ഫിലിമിന് നാരുകളുള്ള ഘടനയുണ്ട്, ഉയർന്ന സാന്ദ്രത, നല്ല സ്തംഭ പരലുകൾ അടങ്ങിയതാണ്, ഇത് സ്പട്ടറിംഗ് ഫിലിമിന്റെ തനതായ ഘടനയാണ്.

സ്പട്ടറിംഗ് മർദ്ദവും ഫിലിം സ്റ്റാക്കിംഗ് വേഗതയും ചിത്രത്തിന്റെ ഘടനയെ ബാധിക്കുന്നു.വാതക തന്മാത്രകൾക്ക് അടിവസ്ത്രത്തിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ ആറ്റങ്ങളുടെ വ്യാപനത്തെ അടിച്ചമർത്താനുള്ള പ്രഭാവം ഉള്ളതിനാൽ, ഉയർന്ന സ്‌പട്ടറിംഗ് മർദ്ദത്തിന്റെ പ്രഭാവം മോഡലിലെ അടിവസ്ത്ര താപനില കുറയുന്നതിന് അനുയോജ്യമാണ്.അതിനാൽ, ഉയർന്ന സ്‌പട്ടറിംഗ് മർദ്ദത്തിൽ മികച്ച ധാന്യങ്ങൾ അടങ്ങിയ പോറസ് ഫിലിമുകൾ ലഭിക്കും.ഈ ചെറിയ ധാന്യം വലിപ്പമുള്ള ഫിലിം ലൂബ്രിക്കേഷൻ, പ്രതിരോധം, ഉപരിതല കാഠിന്യം, മറ്റ് മെക്കാനിക്കൽ ആപ്ലിക്കേഷനുകൾ എന്നിവയ്ക്ക് അനുയോജ്യമാണ്.

4, കോമ്പോസിഷൻ തുല്യമായി ക്രമീകരിക്കുക

ഘടകങ്ങളുടെ നീരാവി മർദ്ദം വ്യത്യസ്തമായതിനാലോ ചൂടാക്കുമ്പോൾ അവ വ്യത്യാസപ്പെടുന്നതിനാലോ വാക്വം ബാഷ്പീകരണം വഴി പൂശാൻ ബുദ്ധിമുട്ടുള്ള സംയുക്തങ്ങൾ, മിശ്രിതങ്ങൾ, ലോഹസങ്കരങ്ങൾ മുതലായവ. അടിവസ്ത്രത്തിൽ, ഈ അർത്ഥത്തിൽ കൂടുതൽ മികച്ച ഫിലിം മേക്കിംഗ് കഴിവുകൾ.വ്യാവസായിക കോട്ടിംഗ് നിർമ്മാണത്തിൽ എല്ലാത്തരം വസ്തുക്കളും സ്പട്ടറിംഗ് വഴി ഉപയോഗിക്കാം.